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在使用掩膜進(jìn)行光或X線曝光時(shí),將掩膜圖形,或在使用不需要掩膜的電子束曝光時(shí),將數(shù)據(jù)式圖形復(fù)制在半導(dǎo)體硅片表面的光刻膠上,形成光刻膠像。設(shè)備用來將產(chǎn)品上的光刻膠去除。
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